镀层厚度测量方法之磁性测厚法

用磁性方法测定磁性金属基体上非磁性覆盖层的厚度、测定磁性和非磁性基体上镍层厚度、非磁性基体上非导电覆盖层的厚度,是应用zui方法的一种无损测厚方法,可依据的国家标准有三个:

(1)GB/T4956《磁性金属基体上非磁性覆盖厚度测量磁性方法》国家标推,等效采用ISO2l78标推。它规定的测厚方法,是利用夹在磁性测厚仪的磁体与磁性基体之间的非磁性覆盖层厚度変化与磁引力变化或其磁路磁阻变化存在一定的函数关系而设计的。

(2)GB/T13744《磁性和非磁性基体上镍电镀层厚度的测量?国家标准。它规定的测厚方法，是利用夹在测厚仪磁体与非磁性基体之间的镍层厚度的变化与因此而引起的磁引力或磁略的磁阻变化存在一定的函数关系而设计的。

(3)GB/T4957《非磁性基体上非导电覆盖层厚度测定涡流方法》国家标准,等效采用1SO02360标准。它规定的测厚方法,是利用涡流测厚仪的测头装置所产生的高频电磁场.使测头下面的导体产生电涡流;此涡流的振幅与相位和共于导体与测头之间的非导电覆盖涂层厚度存在一定的函数关系而设计的。当覆盖层与基体的导电率相差比較大的情况下,也可用来测量非程性导电基体上的非磁性导电覆還层厚度。

利用基体和覆盖层之间有无磁性和利用电涡流进行测厚的方法,其测量精度受许多因素的影响。在测量厚度时,应尽量避免覆盖层的厚度、覆盖层的电导率、基体金属的电和磁的性质(如电导率、磁性、是否存在剩磁等)、基体金属的厚度、测量面边缘效应、测量面的曲率.测量面的粗糙度、测头或测量面上有无异物附着、工作那境周围的磁场、测量时测头的压力、测头取向、环境温度等,对测量准确性的干扰。采用磁性方法和涡流方法测量镀层厚度时,测量误差在±10%或1.5μm以内。