尖峰退火和快速热退火工艺的区别

2024-11-04 来源：小奈知识网

退火时间不同、应用目的不同。
1、退火时间不同：尖峰退火由于温度较高，时间较短，在几秒到几十秒之间，而快速热退火时间也相对较短，在几秒到几十秒之间。
2、应用目的不同：尖峰退火激活掺杂物，修复表面硅的单晶结构，而快速热退火修复离子注入对单晶硅造成的损伤，激活掺杂物。

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