专利名称：制造碳薄膜的方法和碳薄膜涂覆体专利类型：发明专利
发明人：金泽孝明,下田健二,七原正辉,铃木奉努,大森直之申请号：CN200810135072.1申请日：20080725公开号：CN101363111A公开日：20090211
摘要：一种制造碳薄膜的方法，所述方法包括在基材(5)表面上沉积中间层(6)，和在中间层(6)的表面上形成类金刚石碳涂层(1)。在制造碳薄膜的方法中，在中间层(6)的沉积期间将0V到－30V的偏压施加到基材(5)上。
申请人：丰田自动车株式会社,爱信精机株式会社,株式会社东研萨莫技术
地址：日本爱知县丰田市
国籍：JP
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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