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cadence入门

2023-06-03 来源:小奈知识网


Cadence 系列软件从schematic到layout入门 一.客户端软件使用及icfb启动

要使用工作站上的软件,我们必须在PC中使用xwinpro等工具连接到工作站上。从开始菜单中,运行xwinpro的xSettings,按照下图设置:

点击上图的Settings在出现的窗口中按如下设置(connect host选择为192.168.1.137):

设置完后,从开始菜单中运行xwinpro的xsessions,应该就可以进入登陆界面,用户名为user1,密码为root。

二、Schematic

Cadence系列软件包含了电路图工具Schematic,晶体管级电路仿真工具Spectre,以及版图工具Virtuoso等。一般来说,我们先用Schematic画好电路原理图然后进行仿真,最后用Virtuoso手动画版图或者直接进行版图综合,最后对版图进行LVS,DRC等验证。

在登陆进工作站后,点击鼠标右键,选择tools——>terminal,在弹出的terminal窗口中敲入命令icfb&就可以启动cadence了。

图1 icfb的主界面

我们以建立一个反相器电路为例子:

在icfb中,任何一个电路,不论是已经存在的可以引用的库,还是用户新建立的一个电路,都是一个library. 一个library一般有若干个Cell(单元电路),每个cell有若干个schematic(电路原理)和若干个layout(版图)。所以,我们要做的第一步,就是先创建一个自己的“库”,File菜单->new->library

图2 新建一个库的界面

从这个新建一个library的界面,我们必须输入新建立的库的名称,并且选择好这个库应该存放的目录,然后注意看右边的三个选项,关于新建立的库是否需要链接到Technology File的问题。首先,这个Technology File一般是指工艺库,由Foundry提供。如果最终做的电路是需要画出Layout(版图)的,就必须要有工艺库,如果不需要画Layout,那就可以不需要工艺库。由于我们需要演示这一步,所以就选择Attach to an existing techfile。(也可以在建立之后,再Attach to an existing techfile)。

输入name: testinv, (大家在做的时候自己起一个名字)。

现在,我们就已经建立好了一个新的“库”,为了给这个库增加schematic(电路图)和Layout(版图)我们就必须对这个库进行“管理”,从icfb的主菜单(图1)中的Tools菜单->Library Manager.

图3 Library manager

在这里,可以看到左边第一栏当中有很多的“库”包括自己刚建的testinv(或者是自己名字建立的库),这些库的路径保存在cadence的设置文件里面。现在我们看到了刚刚建立的库testinv也在左边的库列表中,里面没有任何cell(单元电路)。我们可以先选中刚建立的这个库,然file菜单->new->cellview。

图4 new cellview

第一项是Library name,也就是这个Cell 应该属于那个库,这个一定要注意选中我们刚才建立的“testinv”(自己建立的库名)。第二项是单元名称,我们填入inv,第三项是view name 我们首先要画的是电路图,所以填入schematic。第四项是tool选择composer-schematic.确定之后,进入schematic的电路图设计界面:

图5 schematic绘制界面

电路图的绘制主要是用界面左方一排工具,画一个反相器,那我们需要有两个mos管,一个p管,一个n管,以及电源和地。P管和n管都是现成的库中已经定义好的,因此需要instance(实例化)一个,第10个工具,是instance,点击出现了一个界面:

图6 add instance

从这个界面中可以从现成的库中选择一个p管单元,在我们的机上,是在sample library当中

图7 Browser instance

选好之后,在图4中填入names(名称) P1,回车,在schematic当中,用鼠标点一

下任何一个地方,将会出现一个P管:

图8 arrange instance

用鼠标左键点击一下器件的中间,可以选中该器件,然后用鼠标的中键按住该器件,从弹出的菜单中选择Properties,可以设置它的属性:

图9 器件特性设置

在这个窗口中,上半部分各个属性的意义已经很明确的了,下半部分是和器件的特性有关系的,最主要的是沟道长度和宽度的设定,下面对各项意义进行解释(仅供参考):

ad:漏区面积 as:源区面积 l:沟道长度modelname:器件模型名称 nrd:漏极电阻 nrs:

源极电阻

w沟道宽度。

设置 l=3u w=3u modelname=pmos 确定。

用同样的方法instance一个n管进来,命名为N1,l和w同样设置成3u,modelname

设置成nmos。继续instant一个vdd和一个gnd,(注意,我们的服务器上这两个cell的库不在sample那里,而在analogLib中)。现在,全部的器件都已经从库里面调出来了,从左边的工具栏中选择Wire工具,然后用鼠标连线,为什么用“连”而不是用“画”呢,因为这个编辑器是不允许随地“画”线的,步骤应该是,先用鼠标选择wire工具,再点击一下器件的连接点A,然后点击另一个器件的连接点B,这样就可以用wrie把两个器件连接起来了,照此方法把两个管按照反相器的接法连接起来,并接上电源和地。

图10 inv

用鼠标中键按住连接栅极的那根线,从出来的菜单中选择Add name,在弹出的对话框中的Names填入input,用同样的方法,把输出的那根线命名为output,然后从Design菜单当中选择,Check and Save ,出现一个对话框,说2 warnings 这是因为两个栅极没有接上输入,暂时不用理会,这个最简单的反相器电路图就完成了.

在icfb中,有一个重要概念,任何一个电路或者我们平常所说的project,都是以一个library的形式存在,你可以引用这部机上任何一个你具有读取权限的library,同时,你所创建的library也将可以被任何具有读取权限的其他用户引用,为了引用其他的library,我们必须设定这个library的路径,并为之取个library名称,让这个库出现在你的library manager (图3) 当中,这样就可以在schematic或者立刻layout当中引用了,如何设定新引用的库的名称及路径呢?图1 tools菜单->Library Path Editor:

图11 library path editor

在这里,我们可以看到,library manager当中的所有library都是在这里“登记”过的,在这里删除这些“登记”记录,并不会真的删除这些library,只是会使得你无法再引用它们,如果想要引用列表中没有的库,只需要在这里增加一条记录,设定好名称和路径,就可以了。所有的这路径信息是保存在那里的呢?看看自己启动cadence的目录,下面是不是有个cds.lib?这些库的路径信息就是保存在这个文件当中的,此外cadence还会在启动目录下面生产一系列的log文件,所以,从哪个目录启动icfb这一点也是很重要的,建议在自己的目录下面创建一个Works目录,每次都先进入这个目录再启动icfb,当然,实际的项目开发工作中,可能不同的项目要引用的library是不同的,可以选择当前项目存放路径作为启动icfb的目录。

三.用spetre仿真

仿真,就是用软件来模拟现实的情况,预测在目前软件能够预知的条件下,我们的电路所能够达到的功能和性能。也就是说,要虚拟使用我们设计的电路。现在先假设我们的电路已经做成了一个IC并封装好,提供了四个管脚,一个电源,一个地,一个input和一个output。让我们来设计几个实验来测试这个反相器,是否能够达到我们的要求。首先是要给我们的ic供电,所以,在VDD和GND之间,接上一个3.3v的电压源。电压源我们可以从analogLib中instance出一个来,viewname是vdc,系统默认赋予它的名字是V0,把它的DC值设置成3.3v,然后给vdc的正负极分别接上vdd和gnd的symbol(如图2.1.0)。注意,这里看上去好像电压源并没有和反相器直接连在一起,但是由于系统中所有标记相同的点电位都相同,所以,图中的这种接法等效于直接把V0接到反相器的正负极。

图2.1.0 加入电源

(1)直流分析(DC Analyses)

我们在input管脚接一个可以调节的电压源,使得这个电压源的电压从0升到高到3.3v然后我们测量output端的电压。同样instance一个电压源出来,接在inpput端,系统默认赋予的名字是V1(图2.1.1).如果这个反相器工作了,那么output端的电压,应该是和input端的电压相反,从接近3.3v一直下降到接近0v。

图 2.1.1 增加输入电压

现在的问题是,如何让V1从0到3.3变化。并且得到output的波形。为了实现这个目的,我们必须先调出cadence公司的仿真工具――spectre.

从图10中的Tools菜单->Analog Environment调出spectre,我们将会看到一个窗口:

图2.1.2 spectre

这个就是cadence提供的仿真工具,其实,不仅仅包含了spectre。但本文只讨论spectre. 调出spectre后的第一步,是设置模型库。图2.1.2 setup菜单->model librarys调出模型库设置窗口。

图 2.1.3 setup model library

在Model Library File那栏填入:

/user/user1/lxc/demo.scs

如果机上没有这个库文件,可以把附件三存储为demo.scs

Section那栏填入:

TP

然后点击 ADD ,结果如图:

图2.1.4 setup result

点击ok,回到spectre的主窗口。现在我们要进行dc分析的设置了,从analyses菜

单->choose调出分析设置窗口。选择DC分析,变化类型选择Component Parameter,Component name 填入 V1参数为dc ,变化范围是0到3.3(见图2.1.5).

图2.1.5 dc分析设置

点击ok.回到了spectre主界面。到此,已经把仿真环境设置好了。现在我们要观察output端的波形,如何才能做到呢?从spectre的outputs菜单->to be plot->select from schematic,这个时候,会切换到schematic窗口,用鼠标点击一下output那条连线,看看发生了什么?

图2.1.6 select on the schematic

没错,output端的颜色变了,标识出它的波形将会被显示。好了,现在,spectre的窗口已经变成了下面的样子:

图2.1.7设置后的spectre

一切准备就绪,从Simulation菜单选择Netlist and run.如果一切正常,那么下面的

图像窗口将会自动出现:

图 2.1.8 Output波形(可能有偏差以实际波形为准)

如果,波形没有出来,那么可能是某个过程出了问题。有可能是模型库的问题,也可能是软件设置的问题,不过,所有的出错都会有报告的,就看看它的报告来排除bug吧。

仿真完了,可能有人还是有点疑惑,那个model library用来干吗的呢?和我们的电路有什么关系呢?看看图9那里,器件的model name属性,我们当时是填了pmos, n管那个则填了nmos. 建议你把 /user1/BaseArea/sample/model/spectre/demo.scs下载下来,看看这个库对pmos和nmos这两个模型名称定义了什么?其实,都是bisim3的mos管模型。

Dc分析,除了包含器件参数的仿真外,还可以进行温度仿真,设计变量仿真和器件模型参数仿真。有兴趣的化可以自己摸索一下。

(2)AC分析

不论你是进行DC还是AC分析,模型库的设置都是必须的,所以,从图2.1.0到图2.1.4的步骤是必须的。AC分析与dc分析在图2.1.5那里开始不同。

我们必须先明确一下ac分析的目的,所谓的ac分析,就是在一定的静态工作点上,施加一个小信号,然后分析输出的的交流信号,可以看出放大系数,频率响应等的特性。我们现在来看看这种结构的反相器,放大系数可以达到多少。

认真观察一下图2.1.8的in-out波形(点击一下该图左边的第四个工具,可以比较好地定位,并且能够从下面地状态条中读取当前的坐标),我们可以看到,当输入(横轴)为1.28伏特时,曲线的斜率比较大。In-out曲线的斜率大意味着什么呢?其实,就是表明输入的微小变化,可以导致输出比较大的变化,即dVo/dVi,其实,这个就是系统的小信号电压放大系数。 那我们就把V1的直流值设置成1.28v,也就是说把静态工作点设置在这里。V1的交流幅值设置为1,初始相位为0。

图2.1.9 设置交流分析的静态工作点

可能有人会奇怪,如果交流幅值为1v的话,可能会严重影响静态工作点,因为这个”小”信号太大了。没关系,不论你设置成1uv 还是100v,系统都只会给出线性的结果。为了方便查看结果,我们就设置成1v。现在我重新调出图2.1.5的窗口,这次,我们选择AC分析。

图2.1.10 ac分析设置

设置频率从1变到10G。注意下面的Enable,如果我们不希望dc和ac分析同时进行的话,就要把dc分析设置那里的enable的勾打掉。Ok,然run:

图2.1.11 ac输出波形

Ac输出是12v,我们的输入小信号是1v,那就表明放大系数是12。我们把pmos和nmos的宽长比都改成 3u/0.7u ,再把V1的直流电压改成1.32v,看看曲线有何变化(W=3u L=0.7u 别设反了):

图 2.1.12 ac分析改善

实际上,放大系数和带宽都有所改善。这主要是因为mos管的放大系数与W/L成正比,而栅极电容的减小,改善了频率特性。那么为什么要把V1改成1.32v呢?有兴趣者,自己试试,在ac分析(图2.1.10)那里,把frequency分析改成 Component parameter 分析,把V1的dc值设置成分析变量,分析频率为1k,你就可以找到能够让放大系数达到最大的静态工作点,事实上,在dc分析的曲线上,那一点的斜率将会是最大的,想明白这两者的联系,我们就可以把“大信号”与“小信号”联系起来,对模拟设计师来说是非常重要的。

下面,介绍一个对放大器设计非常有用的曲线分析方法,如果你目前不设计运放,而且,也不关系电路的幅频特性,可以先不用看,如果有一天你要设计运放,那么这种分析

将是必不可少的。

从spectre的result菜单中选择Direct plot->AC magnitude & phase.

然后会自动切换到schematic窗口,从这里点击output那条连线,致其变色。然后,再回到spectre窗口,从output菜单选择to be plot->select on the schematic.然后,手动切换到波形窗口,我们将看到有两条曲线,一条是以db形式出现的幅频图另外一条是相频图。点击一下左边工具条中的倒数第二个,可以把两条曲线分开。现在,有没有让你想起模电书上的波特图呢?对于模拟设计者来说,频特性是非常重要的,这两条曲线的意义,也将会在以后的运放设计中得到体现。

(3)瞬态分析

(4)小结

Spectre提供了相当丰富的功能,以上只是一些最简单的应用。有没有注意到图2.1.5以及 图2.1.10中的sweep variable当中有个选项是 Design Variables,这个有什么用呢?举个例子,我们可以把V1的dc值设置成 V1DC,然后在spectre的variables菜单中,增加一个变量名称是V1DC,并把它的值设置成1.32,这就等效于直接在schematic中设置V1的dc值为1.32。把一个器件的参数设置成为变量有什么好处呢?第一,这样的话,你就可以从spectre的界面中改变这个值,而不用再到schematic中去改了,run的时候,也可以直接run而不用重新netlist。第二,也是更重要的,设置成了变量之后,就可以和spectre中的Tools->parametric analysis功能结合起来使用。实现类似于mos管 特征曲线的分析。即,有两个或者更多的量在变化是的分析曲线,如图我们希望得到不同Vgs时,Ids随Vds的变化,就可以把Vgs设置成Design Variable,然后放到Parametric

analysis种。

图2.1.13 mos管特征曲线

四、layout

下面我们就进入Layout。Layout也是一种cellview, 所谓的view可以理解为表现形式,一个单元电路(cell),可以用schematic方式或者layout方式表达出来,用在不同的场合。画layout就是给电路建立版图的表达方式,图3 中从左边的列表选中testinv 然后File菜单->new->cellview:

图 15 new cellview layout

这次,Cell Name一定要保持和上次创建schematic时填入的cell name一致,View Name那里就要填入Layout而不是schematic了(实际上,View Name是什么并不重要,你可以用任意名字,但是,为了别人能够看懂,最好就是用layout,如果有多个版图方式的,可以用layoutxxxx,这样的方式)。Tool选择Virtuoso.确定之后,我们就来到了Virtuoso软件的layout界面:

图16 Virtuoso-layout

这个界面和schematic大概相同,只是左边多了一条用于选择各种层的工具条,注意看当前层下面的那个库名称”cellTechLib”,想想当初创建我们的testinv库的时候(图2),Attach to existing techfile,并且选择了cellTechLib,正是这个cellTechLib规定了版图工艺中要包含左边的工具条所列出来的各种层,如果当时没有选对,那么这个时候,在左边的层列表中,可能会一个层都没有,或者出现其他的一些层,这个时候怎么办呢?在图1 的tools中选择technology file manager->attach to,这样就可以重新选择工艺库为celltechlib,现在就可以画版图了。

我们需要一个p管,和一个m管,现在以n型衬底工艺为例,那么,p管就直接在衬

底之上扩散一个源区一个漏区,而n管,则需要先扩散一个p阱。最终,还要把这整个单元用隔离阱隔离开来。先画P管,从左边的layer栏中选择pdiff,然后从工具栏中选择rectangle工具,然后画一个矩形的p扩散区:

图17 diff

同样的方法画栅极和接触孔:

图18 Pmos

这样就画好了一个p管,当然,这个画的非常不严格,而且,并不是按照我们在schematic中设计的宽长比来画的,因为本文只是针对软件的使用,实际绘制的过程中,

对各方面的尺寸有严格的要求,从菜单Verify -> DRC 可以对版图进行尺寸规则检查。下面是已通过DRC的整个反相器的版图:

图 19 inv layout

五、After Layout

DRC验证通过之后。就需要用dracula 或者diva进行版图提取,然后进行ERC验证,以及版图-电路图一致性验证。版图验证完成之后,就可以进行带版图寄生参数的网表文件的后仿真,与由电路图导出的网表进行的“前”仿真相比,带寄生参数的仿真,更直接地反映了流片之后的可能出现的结果,当然,仿真的准确程度决定于所用模型与实际工艺的吻合程度。如果最后出来的芯片,与后仿真结果不一致。可以用测试仪对片子进行参数提取(就是用探针实际去测硅片上的器件的伏安特性以及寄生参数等等),用提取出来的值,对器件模型进行修正,为以后的流片提供更可靠的模型。

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