专利名称：具有可调节电容的等离子体处理系统的方法和装置专利类型：发明专利
发明人：拉金德尔·德辛德萨,阿列克谢·马拉赫塔诺夫申请号：CN201310050126.5申请日：20080623公开号：CN103177927A公开日：20130626
摘要：提供一种在等离子体处理室中处理衬底的方法。该衬底被置于卡盘上方并被边缘环围绕。该边缘环被从该卡盘电性隔离。该方法还包括向该卡盘提供射频电力。该方法还包括提供可调节电容装置。该可调节电容装置耦合于该边缘环以向该边缘环提供射频耦合，使得该边缘环具有边缘环电势。该方法进一步包括在该等离子体处理室中产生等离子体以处理该衬底。该衬底被处理而该可调节电容装置被配置为在处理该衬底的同时，按照所述衬底的直流电势动态调节所述边缘环电势。
申请人：朗姆研究公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：上海胜康律师事务所
代理人：李献忠
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容